光氧凈化設(shè)備適用范圍：煉油廠、橡膠廠、化工廠、制藥廠、污水處理廠、垃圾站等惡臭氣體的脫臭凈化處理。

 　　光氧凈化設(shè)備原理

　　一、本產(chǎn)品利用   的   高臭氧UV紫外線光束照射惡臭氣體，改變惡臭氣體如：氨、胺、硫化氫、甲硫氫、甲硫醇、甲硫醚、和苯乙烯，硫化物H2S、VOC類，苯、甲苯、的分子鏈結(jié)構(gòu)，使或無(wú)機(jī)高分子惡臭化合物分子鏈，在   紫外線光束照射下，降解轉(zhuǎn)變成低分子化合物，如CO2、H2O等。

　　二、利用   高臭氧UV紫外線光束分解空氣中的氧分子產(chǎn)生游離氧，即活性氧，因游離氧所攜正負(fù)電子不平衡所以需與氧分子結(jié)合，進(jìn)而產(chǎn)生臭氧。

　　UV+O2→O-+O*(活性氧)O+O2→O3(臭氧),眾所周知臭氧對(duì)物具有強(qiáng)的氧化作用，對(duì)惡臭氣體及其它刺激性異味有的   效果。

　　三、惡臭氣體利用排風(fēng)設(shè)備輸入到本凈化設(shè)備后，凈化設(shè)備運(yùn)用   UV紫外線光束及臭氧對(duì)惡臭氣體進(jìn)行協(xié)同分解氧化反應(yīng)，使惡臭氣體物質(zhì)其降解轉(zhuǎn)化成低分子化合物、水和二氧化碳，再通過(guò)排風(fēng)管道排出室外。

　　四、利用   UV光束裂解惡臭氣體中的分子鍵，破壞的核酸(DNA)，再通過(guò)臭氧進(jìn)行氧化反應(yīng)，   達(dá)到脫臭及殺滅的目的。

　　光氧凈化設(shè)備技術(shù)特點(diǎn)

　　一、   除惡臭：能   去除揮發(fā)性物(VOC)、無(wú)機(jī)物、硫化氫、氨氣、硫醇類等主要污染物，以及各種惡臭味，脫臭效率   高可達(dá)以上，脫臭效果超過(guò)   1993年頒布的惡臭污染物排放標(biāo)準(zhǔn)(GB14554-93).

　　二、無(wú)需添加任何物質(zhì)：只需要設(shè)置相應(yīng)的排風(fēng)管道和排風(fēng)動(dòng)力，使惡臭氣體通過(guò)本設(shè)備進(jìn)行脫臭分解凈化，無(wú)需添加任何物質(zhì)參與化學(xué)反應(yīng)。

　　三、適應(yīng)性強(qiáng)：可適應(yīng)，大氣量，不同惡臭氣體物質(zhì)的脫臭凈化處理，可每天24小時(shí)連續(xù)工作，運(yùn)行穩(wěn)定。

　　四、運(yùn)行成本低：本設(shè)備無(wú)任何機(jī)械動(dòng)作，無(wú)噪音，無(wú)需專人管理和日常維護(hù)，只需作定期檢查，本設(shè)備能耗低，(每處理1000立方米/小時(shí)，僅耗電約0.2度電能)，設(shè)備風(fēng)阻低<50pa,可節(jié)約大量排風(fēng)動(dòng)力能耗。

　　五、無(wú)需預(yù)處理：惡臭氣體無(wú)需進(jìn)行的預(yù)處理，如加溫、加濕等,設(shè)備工作環(huán)境溫度在攝氏-30℃-95℃之間，濕度在30%-、PH值在2-13之間均可正常工作。

　　六、設(shè)備占地面積小，自重輕：適合于布置緊湊、場(chǎng)地狹小等條件，設(shè)備占地面積<1平方米/處理10000m3/h風(fēng)量。

　　七、   材料制造：、，性能穩(wěn)定，使用壽命長(zhǎng)。

　　光氧凈化設(shè)備適用范圍：煉油廠、橡膠廠、化工廠、制藥廠、污水處理廠、垃圾站等惡臭氣體的脫臭凈化處理。光氧催化廢氣凈化器采用   材料制造：、，性能穩(wěn)定，使用壽命長(zhǎng)。